温度勾配制御のための 3 つの独立した加熱ゾーン
石英管炉は、最高温度 1100 度、連続動作温度 1000 度以下の開放型の 3 ゾーン管加熱システムです。-
この装置は、独立して制御される 3 つの加熱ゾーンを使用します。これにより、サンプルまたは反応領域の異なる部分を異なる温度で動作させることができます。
このような構成は、複数の温度セクション、制御された温度勾配、またはサンプル領域と触媒領域の個別の温度設定を必要とする実験に役立ちます。
この炉では、高純度の石英管とステンレス鋼のシール フランジが使用されています。{0}したがって、構成されたシステムに応じて、真空または保護雰囲気条件下でサンプルを処理できます。


プログラム可能な温度制御とデータ記録
温度制御システムには、PID 制御、自動チューニング、50 セグメント プログラマブル制御を備えた YD858 温度コントローラーが使用されています。
温度制御精度は±1度です。
3 つのコントローラーが 3 つの加熱ゾーンを独立して操作します。同期加熱によりすべてのゾーンを同時に開始することも、プロセスに応じて各ゾーンを個別に制御することもできます。
タッチスクリーンは温度データをリアルタイムで記録および保存できます。動作中に実験が停止した場合、システムは選択した加熱ステージから再開できます。
サンプルゾーンと触媒ゾーンにはそれぞれ 20 以上のプログラムを保存でき、各プログラムで少なくとも 30 の加熱ステージが利用可能です。これにより、複数段階の加熱、保持、冷却プロセスに柔軟性がもたらされます。-
石英管、ガスの流れ、加熱構成
定格電圧は220V、50/60Hz、定格電力は4.5kWです。
推奨加熱速度は 10 度/分以下ですが、記載されている最大加熱速度は 20 度/分です。
温度測定にはAK-タイプの熱電対が使用され、発熱体として0Cr21Al6Nb鉄-クロム-アルミニウム合金線が使用されます。
標準システムには、4 本の φ50 × 1000 mm 高純度石英管と 0.2 ~ 2 L/min の範囲の 12 個のフロート流量計が含まれています。{2}
ステンレス鋼の真空フランジと高温シリコン シール リングが標準のシール構成として提供されています。-より高い真空要件が関係する場合は、他のフランジ、ベローズ、および真空表示オプションについて検討することができます。
技術構成とカスタムサポート
石英管炉プロジェクトの場合、購入者は各温度ゾーンの使用目的、石英管の数、ガス ライン インターフェース、必要な温度プログラムを確認する必要があります。{0}}
Nengcheng Crystal は、高純度アルミナ ファイバー炉の断熱、ゾーン構造、断熱コンポーネントに関する技術コミュニケーションを提供できます。{0}
カスタマイズされたソリューションまたはサンプルの開発には通常 7 ~ 15 日かかりますが、カスタマイズされた機器の製造には通常 20 ~ 45 日かかります。
製造中に写真や動画を提供したり、納品前に第三者による検査を手配したりできます。{0}
製品仕様
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パラメータ |
仕様 |
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最高/連続温度 |
1100度/1000度以下 |
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定格電力と電圧 |
4.5kW、220V、50/60Hz |
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温度制御精度 |
±1度 |
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加熱速度 |
推奨 10 度/分以下。最大20度/分 |
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炉心管の構成 |
4 × φ50 × 1000 mm 高純度石英管- |
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